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Los diamantes cultivados en laboratorio
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| Place of Origin | China |
| Nombre de la marca | INFI |
| Model Number | Cubes/Rectangles |
Los cubos/rectángulos de diamante monocristalino cultivados por CVD ofrecen propiedades mecánicas excepcionales:
Extrema dureza y resistencia al desgaste
Alta resistencia con módulo elástico
Conductividad térmica superior
Bajo coeficiente de fricción
Estabilidad a la corrosión/química
Resistencia a la adhesión
Ideal para herramientas de corte de precisión y ultraprecisión.
Aplicaciones industriales:
Herramientas de fresado/corte
Trefilado de alambre
Cuchillas quirúrgicas/oftálmicas/neuroquirúrgicas
Herramientas de afilado de diamantes
Orificios de boquillas de chorro de agua
| Tamaño disponible | 2~20mm |
| Grosor disponible | 0.2mm - 3mm |
| Tolerancia lateral | +0.15,-0mm |
| Tolerancia de grosor | +0.1,-0.05mm |
| Orientación de la cara | {100}> o {110} |
| Orientación cristalográfica (Corte incorrecto) | ±3° |
| Acabado de la superficie | Pulido, Ra<10nm |
| Bordes | Corte por láser |
| Kerf láser | <3° |
Orientación común:
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Tamaños comunes:
| Tamaño del producto | Longitud | Ancho | Grosor |
| L303010 | 3.0 | 3.0 | 1.0 |
| L403010 | 4.0 | 3.0 | 1.0 |
| L503010 | 5.0 | 3.0 | 1.0 |
| L603010 | 6.0 | 3.0 | 1.0 |
| L703010 | 7.0 | 3.0 | 1.0 |
| L803010 | 8.0 | 3.0 | 1.0 |
| L903010 | 9.0 | 3.0 | 1.0 |
| L1003010 | 10.0 | 3.0 | 1.0 |
| L1103010 | 11.0 | 3.0 | 1.0 |
| L1203010 | 12.0 | 3.0 | 1.0 |
| L1303010 | 13.0 | 3.0 | 1.0 |
| L1403010 | 14.0 | 3.0 | 1.0 |
| L1503010 | 15.0 | 3.0 | 1.0 |
Personalización:
Longitud ajustable (≤20 mm), ancho (≤7 mm)
Opciones de grosor: 0.1, 0.2, 0.3, 0.4, 0.5, 0.6, 0.7, 0.8, 0.9, 1.2, 1.5, 1.7, 2.0 mm
Orientaciones y formas de cristal a medida
Definición de diamante CVD:
El diamante sintético (diamante cultivado en laboratorio/CVD/deposición química de vapor) se produce artificialmente en comparación con la formación geológica natural. Los métodos de producción incluyen:
HPHT: Alta presión y alta temperatura (5 GPa, 1500°C) utilizando prensas pesadas
CVD: Deposición de plasma de carbono sobre sustratos a <27 kPa pressure
Ventajas de CVD: Crecimiento de área grande, versatilidad del sustrato, control preciso de impurezas.
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